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AE高级遮罩脚本BAO Mask Avenger

v2.7.1 官方版
  • AE高级遮罩脚本BAO Mask Avengerv2.7.1 官方版
  • 软件大小:3.2M
  • 更新时间:2019-08-06 17:27
  • 软件语言:中文
  • 软件厂商:
  • 软件类别:国产软件 / 免费软件 / 滤镜插件
  • 软件等级:3级
  • 应用平台:WinAll
  • 官方网站:暂无
  • 应用备案:
好评:50%
坏评:50%

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软件介绍

BAO Mask Avenger是一款AE的高级遮罩脚本,这款脚本可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点,同时在三维空间做路径动画。

功能特色:

拉姆预览保护。以前版本的最大问题是Ram预览无效

通过插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系统避免了这一点。

3D面具。 Mask Avenger现在可以在3D中控制蒙版,而无需使用空图层和表达式。

然后更快地计算掩模,并简化表达式写入。

背景烘焙。当需要修改蒙版时,蒙版复仇者会立即对其进行转换

当前时间,并在后台烘烤工作区域的其余部分。这意味着您可以继续工作

而面具复仇者正在忙着烘焙。这取代了«Dynamic»和«bake»模式。

更好地塑造层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新烘焙而消失系统。

工作区和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然,

烘焙100,000个关键帧需要超过10个,但新的烘焙系统允许您继续工作

而它正在烘烤。

不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger现在使用AE自己的掩蔽功能,运行速度更快。

面具预览。 Mask avenger 2.0有一个预览系统,可以动态地显示它们之前的变化

适用于面具。这可以避免在表达式,其他图层或相机修改蒙版时出现延迟。

蒙版控制说明:

关键帧,缓动,表达式和3D空间。

您可以选择仅使用顶点或完全控制切线。

集成脚本将帮助您使用表达式并将掩码点链接到Null图层。

通过简单的拾取 - 鞭子表达式将掩码顶点链接到跟踪器点。

使用“冻结”模式与没有Mask Avenger的用户共享您的项目。

智能插补模式:基于重心的体积守恒或独立的可关键点锚点。

与“自由变换”蒙版工具集成。

Mask Reader:读取遮罩路径上任意点的位置和方向数据。

Shape Avenger:使用Mask Avenger来塑造图层。

Mask Avenger是一个原生的After Effects插件。

软件标签: BAOMaskAvenger AE

软件截图

AE高级遮罩脚本BAO Mask Avenger v2.7.1 官方版

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